《集成电路布图设计保护条例》修订解读
2026-08-10
2026年8月3日，中国政府网公布第842号国务院令，即修订后的《集成电路布图设计保护条例》（以下简称《条例》），《条例》自2026年10月15日起施行。这是《条例》自2001年10月1日首次施行以来的第一次系统性修订，条文由36条增至54条，围绕“明确总体要求、完善申请审查程序、加强专有权保护、促进布图设计运用”四大方向，全面重塑了我国集成电路布图设计（以下简称“布图设计”）的保护规则。
值得关注的是，本次修订的诸多条文并非凭空而来，而是对近年来司法裁判规则的立法确认。周晓东律师项目组深耕集成电路知识产权领域多年，承办的该领域案件中有七件布图设计案件先后入选《最高人民法院知识产权法庭裁判要旨摘要》，一件入选《最高人民法院全国法院知识产权案件法律适用问题年度报告摘要》,这些案件中确立的裁判规则，与新《条例》的修订亮点高度呼应。本文结合团队日常实务案例和理论研究为背景，对新《条例》作以下解读。
一、诚实信用原则正式入法：从裁判规则到行政法规
（一）修订要点
新《条例》第九条明确规定，申请布图设计登记和行使专有权应当遵循诚实信用原则，不得滥用专有权损害国家利益、社会公共利益或者他人合法权益；第二十条也明确规定了提出布图设计登记申请应当以真实创作活动为基础，不得弄虚作假。
（二）案例关联
在周晓东律师项目组代理的ZW公司与国家知识产权局、TW公司集成电路布图设计撤销行政纠纷案（2022最高法知行终472号、2024最高法行申10366号）中，团队在一审判决不利的情形下，推动最高人民法院二审成功改判、再审维持。该案中，最高人民法院明确了违反诚信原则骗取集成电路布图设计专有权的法律后果，并首次在二审判决中直接确认涉案布图设计不应予以保护，而非撤销后另行等待国家知识产权局作出撤销决定。本案入选《最高人民法院知识产权法庭裁判要旨摘要（2024）》第96号案，并被刊登在最高人民法院知识产权法庭2025年3月的微信公众号上。
（三）律师解读
该案确立的司法直接确认违反诚信原则不予保护的裁判规则，如今被吸收为新《条例》第九条、第二十条的明文规定。这意味着诚信原则从个案裁判标准上升为国务院制定的行政法规，虚假申请、骗取登记等违反诚信原则的行为将面临明确的否定性法律评价，权利基础的合法性审查将贯穿布图设计登记、确权、维权全流程。
二、两年登记期限的坚守：首次商业利用事实的查明仍是攻防焦点
（一）修订要点
新《条例》第二十六条沿袭了原条例的规则——布图设计自首次商业利用之日起2年内未提出登记申请的，不再予以登记。
（二）案例关联
在周晓东律师项目组代理的国家知识产权局、QH公司与GX公司集成电路布图设计撤销行政纠纷二审案（2025最高法知行终38号）中，周晓东律师在二审中发现并抓住涉案布图设计在申请登记前已投入商业利用超过两年的核心事实，成功推动最高人民法院二审判决驳回国家知识产权局的上诉、维持一审判决，为人民法院在行政诉讼中如何采纳并运用新证据提供了裁判思路。本案入选《最高人民法院知识产权法庭裁判要旨摘要（2025）》第101号案，以及2025北京法院十大服务保障新质生产力典型案例（案例九）。
在周晓东律师项目组代理的QH公司诉GX公司侵害计算机软件著作权及集成电路布图设计专有权纠纷二审案（2023最高法知民终645号）中，在一审法院支持软著与布图侵权认定并判令被告赔偿原告600万元的不利情况下，周晓东律师该案二审过程中中途介入，通过对事实的细致收集和法律的精准分析，成功说服最高人民法院认定涉案布图设计因不符合布图设计自首次商业利用之日起需2年内提出登记申请的法律规定而不予保护，最终实现二审改判，将赔偿金额大幅调低至200万元，为客户实现减损400万元的重大诉讼成果。本案入选《最高人民法院知识产权法庭裁判要旨摘要（2025）》第100号案。
在周晓东律师项目组代理的无锡某集成电路公司与台湾某集成电路公司集成电路布图设计专有权侵权案（2022最高法知民终2133号、2025最高法民申2682号）中，团队通过收集到的大量证据形成的完整证据链，证明了原告涉案布图设计在申请登记前两年，已经存在大量流片的事实，进而证明涉案布图设计因不符合布图设计自首次商业利用之日起需2年内提出登记申请而不应予以保护，成功化解了涉案标的2000余万元的诉讼风险。该案对于布图设计专有权客体判断、商业利用的认定等方面具有较高的指导意义，入选《最高人民法院知识产权法庭裁判要旨摘要（2024）》第97号案，同时入选《最高人民法院全国法院知识产权案件法律适用问题年度报告（2024）摘要》第41号案（总共43例）。
（三）律师解读
两年期限是布图设计登记制度的“生命线”，其直接决定布图设计能否获得法律保护。上述案例表明，首次商业利用时间的查明往往直接决定权利的存废，无论是行政撤销程序还是民事诉讼程序，围绕首次商业利用事实的证据收集与认定都至关重要。新《条例》保留该规则，企业在产品上市前即应规划登记节奏，切勿因商业利用先行时间超过两年而丧失法律保护。
三、诉前保全条款的删除与回归：行为保全审查标准已在司法中先行
（一）修订要点
原条例第三十二条关于诉前责令停止有关行为和财产保全的规定被整体删除。
（二）案例关联
周晓东律师项目组代理的ZT公司诉XY公司、CW公司侵害集成电路布图设计专有权侵权纠纷行为保全复议案（2024最高法知民复3号），成为最高人民法院知识产权法庭在全国范围内首次作出支持行为保全的复议裁定，通过行为保全措施救济程序的实践，明晰了法院采取行为保全措施的审查标准。本案入选《最高人民法院知识产权法庭裁判要旨摘要（2024）》第143号案，并入选2025年无锡中院知识产权法庭半导体行业四件知识产权典型案例第3号案，获中国知识产权报、新华日报等多家媒体报道。
（三）律师解读
删除并非弱化保护，而是因为行为保全制度已由上位法《民事诉讼法》统一规定，条例不再重复。立法删繁就简，司法明晰标准，布图设计权利人制止侵权的临时救济通道反而更加通畅。
四、独创性声明制度：权利边界由事后争议转向事前明晰
（一）修订要点
新《条例》第二十二条将独创性声明列为登记申请的必备材料；第二十三条要求复制件或图样能够清楚显示布图设计具有独创性的部分；第二十四条要求独创性声明指明具有独创性的设计区域、设计要点及相应功能；第三十四条进一步明确，受保护的布图设计以登记的复制件或图样为准，独创性声明可以用于解释布图设计的独创性。
（二）案例、文章关联
周晓东律师项目组在过往代理的多件侵害集成电路布图设计专有权侵权纠纷民事诉讼案件，多件集成电路布图设计撤销行政处理程序及对应的行政诉讼案件中，多次提及现有布图设计登记文件中存在的独创性不明确的问题，建议在今后的布图设计登记过程中引入类似外观设计专利申请文件中简要说明的文件来阐明权利人的独创性设计，以便于更好的确定权利边界。另外，在团队2025年公开发表的《AI芯片知识产权保护之比较研究》一文中也提及布图设计中希望有技术说明，该技术说明包括布图设计的功能、技术特点、创新点等信息，其中的创新点就是指向了《条例》中涉及的独创性声明。
（三）律师解读
新《条例》通过独创性声明制度，把这一以往在侵权诉讼中才被充分检视的问题前移至登记环节，要求申请人在申请之初即固定独创性主张的范围。对权利人而言，独创性声明既是确权的基础文件，也将成为未来维权时划定权利边界的依据。对被诉侵权方而言，声明文件则为客体抗辩提供了明确的比对基准。
五、撤销程序发起主体公众化规则：权利稳定性的再平衡
（一）修订要点
新《条例》第三十条新增“任何人发现登记不符合本条例规定的，可以请求国务院知识产权行政部门撤销布图设计登记”，并将撤销事由有限性列举；第三十一条明确，布图设计登记被撤销的，专有权视为自始即不存在。
（二）案例关联
周晓东律师项目组之前已经在国家知识产权局代理过包括JC0018、JC0022等多件撤销集成电路布图设计登记的行政处理案件，撤销事由包括不具有独创性、布图设计登记距离首次商业利用日超两年等，最终前述涉案布图设计均成功撤销。
（三）律师解读
新《条例》第三十一条以自始不存在的明文表述，为这类案件的处理提供了更清晰的立法依据；而任何人可请求撤销的制度设计，则使布图设计登记的社会监督机制真正落地，与专利无效宣告制度形成呼应。对于被诉侵权方，撤销请求将与不侵权抗辩、客体抗辩共同构成完整的防御体系。
六、惩罚性赔偿落地：侵权成本的量级跃升
（一）修订要点
新《条例》第四十六条首次在布图设计领域确立惩罚性赔偿——赔偿数额按照权利人实际损失或侵权人违法所得确定，难以确定的参照许可使用费倍数合理确定；对故意侵权、情节严重的，可以在上述数额的1倍以上5倍以下确定赔偿数额，并应包括权利人为制止侵权支付的合理开支。
（二）律师解读
原条例仅笼统规定按侵权人获利或被侵权人损失赔偿，实践中赔偿数额的认定缺乏层次。新《条例》建立了实际损失或违法所得、许可费倍数、惩罚性赔偿逐级适用的阶层计算框架，与《专利法》《商标法》《著作权法》的赔偿体系全面接轨。结合前述周晓东律师办理的2023最高法知民终645号案可以看到，赔偿数额的确定高度依赖权利基础的稳固程度与损害事实的证明精度，权利基础一旦被动摇，高额索赔便失去根基。新规之下，无论是主张高赔偿还是抗辩低赔偿，举证质证的专业化程度都将决定案件的最终走向。
七、保护范围扩展：光子、量子芯片布图设计正式纳入保护视野
（一）修订要点
原条例在界定“集成电路”时使用了“半导体集成电路”的表述，新《条例》第三条删去了这一限定，并新增一款——对集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计，可以依照本条例的规定予以保护。
（二）律师解读
这一修改解决了长期以来困扰新型芯片产业的一个基础性疑问：硅光芯片、光子计算芯片、量子芯片等新型器件，其物理实现方式已不完全等同于传统半导体集成电路，在旧法框架下能否获得布图设计保护存在解释空间。新《条例》通过删除限定性表述并新增准用条款，完成了保护客体的技术中立化改造，为今后新类型芯片技术预留了明确的制度空间。
八、权利运用体系完善：布图设计专有权的资产化路径更加清晰
（一）修订要点
新《条例》围绕布图设计专有权的运用新增了四项制度：一是出质登记，以专有权出质的，由出质人和质权人共同向国务院知识产权行政部门办理出质登记并公告（第三十五条）；二是许可备案，许可合同应自生效之日起3个月内向国务院知识产权行政部门备案（第三十五条）；三是共有权行使规则，共有人无约定时可以单独使用或以普通许可方式许可他人使用，使用费在共有人之间分配，其他行使方式需全体共有人同意（第三十六条）。
（二）律师解读
该四项制度表明布图设计专有权正在从单纯的权利凭证，转变为可质押、可许可、可分配的运营资产。
（1）出质登记制度的落地，意味着布图设计与专利、商标一样成为合格的融资担保标的，但质权人在尽调中必然关注权利的稳定性——登记是否满两年、是否存在被撤销风险、独创性声明是否经得起检验，这些恰恰是前文各案例中反复出现的争点，权利质量将直接决定融资估值。
（2）许可备案虽非合同生效要件，但备案形成的公示记录在对抗第三人、侵权诉讼中证明许可关系和许可费标准方面具有重要证据价值。
（3）共有规则填补了合作研发场景下的法律空白，其中共有人可单独使用或以普通许可方式许可他人使用并分配使用费的默认规则，与专利法的共有制度相近但不完全相同。
九、涉外规则升级：从代理机构强制委托到对等反制条款
（一）修订要点
新《条例》的涉外修改包含三个层次：一是第五条规定，在中国没有经常居所或营业所的外国人、外国企业或外国其他组织，在中国申请布图设计登记和办理其他事务的，应当委托依法设立的专利代理机构办理，代理机构对布图设计中未公开的内容负有保密责任；二是第三十五条规定，中国自然人、法人或非法人组织向外国人、外国企业或外国其他组织转让布图设计专有权的，应依照有关法律、行政法规和国家有关规定办理手续；三是第五十三条增设对等条款，任何国家或地区在布图设计保护方面对我国采取歧视性禁止、限制或其他类似措施的，我国可根据实际情况采取相应措施。
（二）律师解读
涉外规则的三处修改，分别对应外国主体在华登记、中国主体向境外转让和国际对等保护三个维度。
（1）就强制代理而言，这是布图设计制度与专利、商标涉外代理规则的全面接轨。
（2）就保密责任而言，代理机构泄露未公开内容的处罚责任，外国企业向中方代理机构披露布图设计资料时，获得了明确的法定保密保障。
（3）就向境外转让而言，依法办理手续意味着交易可能同时触及技术进出口管理、出口管制等多重监管，转让方在签约前即应完成合规路径评估。
（4）就对等条款而言，其与《专利法》《商标法》一脉相承，为我国在布图设计保护领域的国际博弈提供了明确的法规依据。
结语
周晓东律师项目组从2017年代理了第一件侵害集成电路布图设计专有权侵权纠纷民事诉讼案件（2017粤03民初1209号）以来，近十年间处理布图设计领域包括民事侵权纠纷、行政撤销纠纷、行政诉讼纠纷案件累计达20余件，其中2021年到2025年，周晓东律师项目组承办的布图设计案件连续多年入选《最高人民法院知识产权法庭裁判要旨摘要》，截止目前入选案件总数达7件，覆盖布图设计的客体判断、商业利用认定、诚信原则适用、行为保全审查、撤销程序衔接等多项法律核心争点。可以说，团队办理的案件见证了布图设计司法保护规则的成型过程，而新修订的《条例》则是将这些规则固化为立法制度。
2026年10月15日新《条例》施行在即，广大集成电路产业链企业的知识产权协同布局、登记策略、运用管理、高效保护、精准抗辩等都需要做相应更新。周晓东律师项目组将持续跟踪新法实施动态，为集成电路产业链企业提供从知识产权前瞻布局、登记确权、合规尽调到诉讼维权、争议解决的一体化法律服务。
官方链接：李强签署国务院令 公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》
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